重大突破!中国EUV光刻技术打破美国“卡脖子”,芯片生产有望逆袭?

中国EUV光刻光源技术获重大突破4月29日消息,中国科学院上海光机所林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国际领先水平。这一突破有望突破中国自主...

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